[发明专利]半导体装置有效
| 申请号: | 201480070604.1 | 申请日: | 2014-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN105849873B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
| 发明(设计)人: | 梅本康成;德田大辅;西明恒和;德矢浩章 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号: | H01L21/331 | 分类号: | H01L21/331;H01L21/3205;H01L21/60;H01L21/768;H01L23/522;H01L29/737 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 舒艳君;李洋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明涉及半导体装置。在具备双极晶体管BT的半导体装置中,柱状凸点(20)和与发射极层(5)电连接的第二布线(14)接触的第三开口(16)从与发射极层(5)的正上对应的位置向发射极层(5)的长边方向偏移,第三开口(16)相对于发射极层(5),被配置成发射极层(5)的长边方向的端部与第三开口(16)的开口端几乎一致。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,是具备异质结型的双极晶体管的半导体装置,上述双极晶体管具备:集电极层;基极层,形成在上述集电极层上;发射极层,形成在上述基极层上;发射极布线,与上述发射极层电连接;钝化膜,被形成为覆盖上述发射极布线,且具有使上述发射极布线露出的开口;以及凸点,在上述钝化膜上被形成为填埋上述开口,并经由上述发射极布线而与上述发射极层电连接,上述开口相对于上述发射极层配置在第一配置和第二配置之间的位置,上述第一配置为俯视时上述发射极层与上述开口内的区域重合的面积的相对于上述发射极层的面积的重合比例小于1/2,上述第二配置为相对于上述第一配置向远离上述发射极层的方向偏移,且上述发射极层的端部位于上述凸点与上述钝化膜在俯视时重合的区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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