[发明专利]共轭二烯系聚合物及共轭二烯系聚合物的制造方法有效
| 申请号： | 201480069809.8 | 申请日： | 2014-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN105849134B | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 樱井拓郎;饭塚崇;山岸英哲 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08C19/25 | 分类号： | C08C19/25;B60C1/00;C08F8/42;C08F36/04;C08K3/36 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人： | 袁波,刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种共轭二烯系聚合物，由下述的式(1)或下述的式(2)表示。(式(1)、式(2)中，polymer表示包含共轭二烯单体单元而成的聚合物链，X1、X2表示选自烃氧基、卤素基及羟基中的官能团，R1、R4表示可具有取代基的烃基，R2及R3、R5及R6分别表示可具有取代基的烃基，R2及R3、R5及R6可以互相键合而形成环结构。式(1)中，n为1～3的整数，m为0～2的整数，p为0～2的整数，n+m+p＝3。此外，式(2)中，s为1或2，t为0或1，u为0或1，s+t+u＝2。 | ||
| 搜索关键词： | 共轭 二烯系 聚合物 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种共轭二烯系聚合物，由下述的式(1)或下述的式(2)表示，式(1)中，polymer表示包含共轭二烯单体单元而成的聚合物链，X1表示选自烃氧基、卤素基及羟基中的官能团，R1表示可具有取代基的烃基，R2及R3分别表示可具有取代基的烃基，R2及R3可以互相键合而形成环结构，n为1～3的整数，m为0～2的整数，p为0～2的整数，n+m+p＝3，式(2)中，polymer表示包含共轭二烯单体单元而成的聚合物链，X2表示选自烃氧基、卤素基及羟基中的官能团，R4表示可具有取代基的烃基，R5及R6分别表示可具有取代基的烃基，R5及R6可以互相键合而形成环结构，s为1或2，t为0或1，u为0或1，s+t+u＝2。
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