[发明专利]抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品有效

专利信息
申请号: 201480069189.8 申请日: 2014-12-18
公开(公告)号: CN105829022B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 山原通宏 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;彭会
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种用于利用单个抛光设备来实现多种类型的抛光的抛光垫。根据一个实施方案的抛光垫包括:面向抛光构件和支撑构件中的一者的第一外层;面向抛光构件和支撑构件中的另一者的第二外层;定位在第一外层与第二外层之间的内层;以及形成于第二外层中、内层能够进入的多个空间。内层的硬度既低于第一外层的硬度又低于第二外层的硬度。
搜索关键词: 抛光 设备 方法 以及 包括 物体 制品
【主权项】:
1.一种抛光垫,包括:面向抛光构件和支撑构件中的一者的第一外层;面向所述抛光构件和所述支撑构件中的另一者的第二外层;定位在所述第一外层与所述第二外层之间的内层;以及形成于所述第二外层中的多个空间,其中所述多个空间和所述内层构造为使得所述内层的部分在施加于所述抛光垫上的压力的作用下进入所述多个空间,其中所述内层的所述部分在施加的第一量的压力下部分地进入所述多个空间并且所述内层充当施加至所述抛光构件的压力的缓冲,并且其中所述内层的所述部分在施加的第二量的压力下完全填满所述多个空间并且所述内层将施加的大致所有压力转移到所述抛光构件,其中所述内层的硬度既低于所述第一外层的硬度又低于所述第二外层的硬度。
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