[发明专利]抛光垫、抛光设备、抛光方法以及包括用该抛光方法抛光的物体的制品有效
申请号: | 201480069189.8 | 申请日: | 2014-12-18 |
公开(公告)号: | CN105829022B | 公开(公告)日: | 2019-05-28 |
发明(设计)人: | 山原通宏 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;彭会 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于利用单个抛光设备来实现多种类型的抛光的抛光垫。根据一个实施方案的抛光垫包括:面向抛光构件和支撑构件中的一者的第一外层;面向抛光构件和支撑构件中的另一者的第二外层;定位在第一外层与第二外层之间的内层;以及形成于第二外层中、内层能够进入的多个空间。内层的硬度既低于第一外层的硬度又低于第二外层的硬度。 | ||
搜索关键词: | 抛光 设备 方法 以及 包括 物体 制品 | ||
【主权项】:
1.一种抛光垫,包括:面向抛光构件和支撑构件中的一者的第一外层;面向所述抛光构件和所述支撑构件中的另一者的第二外层;定位在所述第一外层与所述第二外层之间的内层;以及形成于所述第二外层中的多个空间,其中所述多个空间和所述内层构造为使得所述内层的部分在施加于所述抛光垫上的压力的作用下进入所述多个空间,其中所述内层的所述部分在施加的第一量的压力下部分地进入所述多个空间并且所述内层充当施加至所述抛光构件的压力的缓冲,并且其中所述内层的所述部分在施加的第二量的压力下完全填满所述多个空间并且所述内层将施加的大致所有压力转移到所述抛光构件,其中所述内层的硬度既低于所述第一外层的硬度又低于所述第二外层的硬度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480069189.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:冲击工具
- 下一篇:用于分割加工板状工件的机器