[发明专利]用于促进自组装的底层组合物及制备与使用方法

摘要

本文中公开的是一种底层组合物，其中该底层通常用于促进自组装结构的形成，并且其中该底层制剂包含：(a)包含至少一种具有结构(I)的单体重复单元的聚合物：其中X是选自式(II)、(III)、(IV)、(V)的交联基团：并且其中n为0‑5，p为0‑5，q为1‑2，m为1‑2，且R为H、C₁‑C₄烷基、三(C₁‑C₄烷基)甲硅烷基；(b)至少一种热生酸剂；和(c)溶剂。本发明进一步涉及制备和使用该组合物的方法。

主权项

1.底层制剂，所述底层用于促进自组装结构形成，包含：a.包含至少一种具有以下结构的单体重复单元的聚合物：其中X是选自以下的交联基团：并且其中p为0‑5的整数，且R为H、C₁‑C₄烷基、三(C₁‑C₄烷基)甲硅烷基；b.至少一种热生酸剂；和c.溶剂。