[发明专利]亲水性固化物用组合物有效

专利信息
申请号: 201480067496.2 申请日: 2014-12-05
公开(公告)号: CN105814092B 公开(公告)日: 2018-09-21
发明(设计)人: 冈崎光树 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: C08F2/44 分类号: C08F2/44
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;牛蔚然
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题在于提供即使利用更简便的方法也可得到亲水基在表面上偏析的固化物的组合物、以及可制作使以往难以在表面上偏析的亲水基在表面上偏析的固化物的组合物、及由该组合物得到的固化物,另外,提供适用于得到不仅亲水性高、而且该亲水性的耐久性高并且表面平滑性高的固化物的组合物、及由该组合物得到的固化物。本发明中,制作由通过将下述组合物聚合而得到的交联树脂形成的单层膜,所述组合物包含化合物(I)、化合物(II)以及选自表面活性剂(III)和分子量为200~1,000,000的化合物(IV)中的至少一种化合物,所述化合物(I)具有选自阴离子性亲水基、阳离子性亲水基、及羟基中的至少一种亲水基、和至少1个具有聚合性碳-碳双键的官能团(其中,亲水基为具有羟基的基团时,具有聚合性碳-碳双键的官能团数量为一个),所述化合物(II)具有2个以上具有聚合性碳-碳双键的官能团,所述表面活性剂(III)具有亲水部和疏水部,所述亲水部具有阴离子性亲水基、阳离子性亲水基、或2个以上羟基,所述疏水部由有机残基形成,所述化合物(IV)具有硅氧烷键(其中,表面活性剂(III)及化合物(IV)均不具有聚合性碳-碳双键),该单层膜的选自阴离子性亲水基、阳离子性亲水基及羟基中的至少一种亲水基的表面浓度(Sa)与单层膜膜厚1/2地点处的亲水基的深部浓度(Da)的亲水基浓度的倾斜度(Sa/Da)为1.1以上。
搜索关键词: 亲水性 固化 组合
【主权项】:
1.一种单层膜,其是由下述交联树脂形成的单层膜,所述交联树脂是通过从下述组合物中除去溶剂至溶剂含量为10重量%以下之后进行聚合而得到的,所述组合物包含:化合物(I),所述化合物(I)具有选自阴离子性亲水基、阳离子性亲水基及羟基中的至少一种亲水基、和至少1个具有聚合性碳-碳双键的官能团,其中,亲水基为具有羟基的基团时,具有聚合性碳-碳双键的官能团数量为一个;化合物(II),所述化合物(II)具有2个以上具有聚合性碳-碳双键的官能团,其中,所述化合物(II)可以具有羟基,但不具有阴离子性亲水基、及阳离子性亲水基中的任意基团;选自表面活性剂(III)及下述通式(200)表示的化合物(IV)中的至少一种化合物,所述表面活性剂(III)具有亲水部和疏水部,所述亲水部具有阴离子性亲水基、阳离子性亲水基或2个以上羟基,所述疏水部由有机残基形成,所述化合物(IV)分子量为200~1,000,000并且具有硅氧烷键,其中,表面活性剂(III)及化合物(IV)均不具有聚合性碳-碳双键;以及沸点不超过200℃的溶剂,所述溶剂不包括NRaRb(CH2CH2OH)表示的乙醇胺系化合物,其中,Ra及Rb独立地为氢、碳数1~15的烷基、或CH2CH2OH基;该单层膜的选自阴离子性亲水基、阳离子性亲水基及羟基中的至少一种亲水基的表面浓度(Sa)与单层膜膜厚1/2地点处的亲水基的深部浓度(Da)的亲水基浓度的倾斜度(Sa/Da)为1.1以上,上述通式(200)中,L和M为单元比即摩尔比,L表示0~0.99,M表示0.1~1.00,并且,满足L+M=1.00;N为用带有下标L及M的方括号括起来的2种基团的总数,表示1~10000的整数;p表示1~30的整数;q及r各自独立地表示0~10000的整数;R4~R6各自独立地表示氢原子、碳数1~10的烷基、或苯基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井化学株式会社,未经三井化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480067496.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top