[发明专利]检查设备和方法、具有量测目标的衬底、光刻系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201480067198.3 | 申请日： | 2014-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN105814491B | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | S·G·J·玛斯吉森;斯蒂芬·亨斯克;M·G·M·M·范卡拉埃吉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光刻中的检查设备被披露。其包括用于衬底的支撑件，所述支撑件承载多个量测目标；光学系统，用于在预定照射条件下照射目标并且用于检测在所述照射条件下由目标衍射的辐射的预定部分；处理器，所述处理器布置成用来从衍射辐射的所述检测部分计算出对于特定目标的不对称度的测量；以及控制器，用于使所述光学系统和处理器测量出所述目标中至少两个目标的不对称度，所述至少两个目标具有在衬底上的一层内的结构与更小子结构之间的位置偏置的不同的已知分量；并且使所述光学系统和处理器从所述不对称度测量的结果计算出对于所述更小尺寸的结构的光刻过程的性能参数的测量。还披露了具备由光刻过程所形成的多个新型量测目标的衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 设备 方法 具有 目标 衬底 光刻 系统 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种用于测量光刻过程的性质的检查设备，所述设备包括：用于衬底的支撑件，所述支撑件承载包括通过光刻过程所形成的结构的多个量测目标；光学系统，用于在预定照射条件下照射多个目标并且用于检测在所述照射条件下由目标衍射的辐射的预定部分；处理器，所述处理器布置成用于从衍射辐射的所述检测部分计算出对于特定目标的不对称度的测量；和控制器，用于使所述光学系统和处理器测量出所述目标中至少两个目标的不对称度，所述至少两个目标具有在衬底上的一层内的结构与更小子结构之间的位置偏置的不同的已知分量；并且使所述光学系统和处理器从所述不对称度测量的结果计算出对于所述更小尺寸的结构的光刻过程的性能参数的测量。
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