[发明专利]发射器及滴灌用输送管在审
申请号: | 201480064780.4 | 申请日: | 2014-11-26 |
公开(公告)号: | CN105792635A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 木立昌宏 | 申请(专利权)人: | 恩普乐股份有限公司 |
主分类号: | A01G25/02 | 分类号: | A01G25/02 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的发射器(120)构成从用于引入输送管内的灌溉用液体的取水部(220)到排出部(250)的流路。该流路包含流量控制部(240),流量控制部(240)包含:端面(243),其包括朝向薄膜(300)的凹面状的倾斜面,所述薄膜(300)承受输送管内的液压;孔(244),其在流量控制部(240)的中央开口并与排出部(250)相连;以及槽(245),其横穿上述倾斜面并到达孔(244)。若薄膜(300)由于输送管内的灌溉用液体的压力而紧贴上述倾斜面,则发射器(120)内的灌溉用液体的流量将被控制为能够通过槽(245)的量。 | ||
搜索关键词: | 发射器 滴灌 输送 | ||
【主权项】:
一种发射器,其接合于使灌溉用液体流通的输送管的内壁面的、与使所述输送管内外连通的排出口对应的位置,用于从所述排出口定量地排出所述输送管内的所述灌溉用液体,该发射器包括:取水部,用于引入所述输送管内的所述灌溉用液体;减压流路,用于使从所述取水部引入的所述灌溉用液体一边减压一边流动;流量控制部,用于根据所述输送管内的所述灌溉用液体的压力,对从所述减压流路供给的所述灌溉用液体的流量进行控制;以及排出部,被供给由所述流量控制部控制了流量的所述灌溉用液体,且该排出部应朝向所述排出口,所述取水部在所述发射器的不与所述输送管接合的第一表面开口,所述流量控制部包括:开口部,在所述第一表面开口;薄膜,堵塞所述开口部,切断比所述减压流路更靠下游侧的流路与所述输送管内部之间的连通,且具有挠性;凹面部,以朝向所述薄膜而不与所述薄膜接触的方式配置于比所述减压流路更靠下游侧的流路,该凹面部能够与所述薄膜紧贴,且相对于所述薄膜洼陷;孔,在所述凹面部开口,且与所述排出部相连;以及槽,形成于所述凹面部,使比所述凹面部更靠外侧的所述流路与所述孔连通,所述薄膜在所述输送管内的所述灌溉用液体的压力为设定值以上时与所述凹面部紧贴。
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