[发明专利]使用光学投影的基板调整系统和方法有效

专利信息
申请号: 201480064441.6 申请日: 2014-11-26
公开(公告)号: CN105765462B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 安东·J·德维利耶;丹尼尔·富尔福德;赫里特·J·勒斯因克 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 唐京桥;陈炜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本文中的技术包括提供将光空间控制地或基于像素地投影到基板上以调整各种基板属性的系统和方法。投影到基板表面的给定的基于像素的图像可以基于基板信号。基板信号可以在空间上表示跨基板的表面的非均匀性。这种非均匀性可以包括能量、热、临界尺寸、光刻曝光剂量等。这样的基于像素的光投影可以用于调整基板的各种属性,包括调整临界尺寸、加热均匀性、蒸发冷却以及产生感光剂。将这样的基于像素的光投影与光刻图案化工艺和/或加热过程相结合提高了处理的均匀性并且减少了缺陷。实施方式可以包括使用数字光处理(DLP)芯片、光栅光阀(GLV)或其他的基于网格的微投影技术。
搜索关键词: 使用 光学 投影 调整 系统 方法
【主权项】:
1.一种处理基板的方法,所述方法包括:将基板定位在基板保持器上;使用位于所述基板的顶表面下方的热源对所述基板进行加热;经由基于网格的光投影系统将光投影到所述基板的表面上,所述基于网格的光投影系统被配置成根据位置改变投影的光的振幅;基于基板信号根据位置来改变投影在所述基板的表面上的光的振幅;使用热成像设备识别所述基板的表面的空间热信号;基于所述空间热信号计算温度校正图像;以及将所述温度校正图像投影到所述基板的表面上,使得所述温度校正图像减小跨所述基板的表面的平均温度差。
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