[发明专利]具有保留的光学性质的耐划痕制品

摘要

本发明的一个或多个方面涉及一种制品(200)，所述制品(200)包含设置于基材(110)上的光学膜结构(220)，所述制品(200)可包含经过强化或未经强化的基材，所述基材可以是无定形基材或晶体基材，以使所述制品(200)在没有设置于基材(110)上的光学膜结构(220)的条件下能够展现出耐划痕性并保持与基材(110)相同或改善的光学性质。在一种或多种实施方式中，所述制品(200)在可见光谱内(例如380nm～780nm)展现出85％或更高的平均透射率。所述光学膜结构(220)的实施方式包含含铝的氧化物、含铝的氮氧化物、含铝的氮化物(例如AlN)和它们的组合。本发明的光学膜结构还包含透明介电材料，所述透明介电材料包含氧化物，例如氧化硅、氧化锗、氧化铝和它们的组合。本发明还提供了这种制品的形成方法。

主权项

一种透明制品，其包含：具有相反主表面的基材；和设置在所述基材的第一主表面上的光学膜结构，其形成正面，其中，所述制品包含12GPa或更大的最大硬度，所述最大硬度通过布氏压痕硬度测试沿着200nm～600nm的压痕深度在所述正面上测得；和以下两项中的一项或两项：(L*,a*,b*)色度系统中的制品的透射色坐标在垂直入射下展现出在所述正面测得的相对于参照点小于2的色偏，所述参照点包含色坐标(a*＝0,b*＝0)和所述基材的所述透射色坐标中的至少一种；和(L*,a*,b*)色度系统中的制品的反射色坐标在垂直入射下展现出在所述正面测得的相对于参照点小于2的色偏，所述参照点包含色坐标(a*＝0,b*＝0)和所述基材的所述反射色坐标中的至少一种，其中，当所述参考点是所述基材的色坐标时，所述色偏由下式定义：√((a*制品‑a*基材)2+(b*制品‑b*基材)2)，且其中，当所述参考点是色坐标(a*＝0,b*＝0)时，所述色偏由下式定义：√((a*制品)2+(b*制品)2)。