[发明专利]用于控制气流模式的处理腔室设备、系统及方法

摘要

处理腔室气流控制设备可包含处理腔室或被包含于处理腔室，所述处理腔室经配置以在处理腔室中处理基板。所述气流控制设备可包含阀，所述阀经配置以密封所述处理腔室中的排气口。所述阀可在X、Y及Z方向上相对于所述排气口为可移动的，以调整所述处理腔室内的气流模式(包含，例如，流动速率和/或流动均匀性)。调整处理腔室内处理气体流动的方法也被提供，如同其它方面。

主权项

一种处理腔室气流控制设备，包括：处理腔室，所述处理腔室经配置以在处理腔室中处理基板，所述处理腔室具有排气口；及阀，所述阀经配置以密封所述排气口且经配置以在X、Y及Z方向上相对于所述排气口移动，以调整所述处理腔室内的气流模式。