[发明专利]将土壤处理剂施加到地面之下的设备和系统在审
申请号: | 201480057604.8 | 申请日: | 2014-08-14 |
公开(公告)号: | CN105934153A | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | J·H·钦克;K·S·布朗;R·A·沃里纳;J·D·范诺伊 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫农业公司 |
主分类号: | A01M17/00 | 分类号: | A01M17/00;A01M25/00;A01C23/02;A01B79/00;A01M1/24 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘敏;吴鹏 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 在用于处理土壤的设备和系统(710)中,喷射设备(712)可操作成在高压力下将土壤处理剂向下喷射到土壤中。基础单元(714)可操作成将加压流体输送到喷射设备。喷射设备通过管道(713)连接至基础单元,该管道在其之间限定了流体通路,该喷射设备可定位成远离基础单元。基础单元包括基础单元控制系统(792),该基础单元控制系统用于控制基础单元的操作以将加压流体输送到喷射设备,喷射设备包括与基础单元控制系统通信的喷射设备控制系统(799),用于从远离基础单元的位置控制基础单元的操作。 | ||
搜索关键词: | 土壤 处理 施加 地面 之下 设备 系统 | ||
【主权项】:
一种用于将土壤处理剂喷射到地表下土壤中的设备,该设备包括:可操作成在高压力下将土壤处理剂向下喷射到土壤中的喷射设备;和可操作成将加压流体输送到喷射设备的基础单元,喷射设备通过管道连接至基础单元,该管道在所述喷射设备和该基础单元之间限定了流体通路,所述喷射设备能定位成远离基础单元,该基础单元包括基础单元控制系统,该基础单元控制系统用于控制基础单元的操作以将加压流体输送到喷射设备,和该喷射设备包括与基础单元控制系统通信的喷射设备控制系统,用于从远离所述基础单元的位置来控制基础单元的操作。
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