[发明专利]基板处理装置

摘要

根据本发明的一实施例，基板处理装置包括：腔本体，该腔本体的上部和下部开放，并通过形成于一侧的通道运送基板；内部反应管，该内部反应管具有下部开放的形状，并设置在上述腔本体的上部而提供对上述基板实施工序的工序空间；基板支架，配置在上述腔的开放的下部，可以将通过上述通道运送的上述基板转换到沿着上下方向装载的装载位置、及朝向上述工序空间上升而对被装载的上述基板实施工序的工序位置；遮断板，连接在上述基板支架的下部而与上述基板支架一起升降，在上述工序位置封闭上述内部反应管的开放的下部；连接气缸，竖立设置在上述遮断板的下部而与上述遮断板一起升降；及遮断部件，被连接在上述腔本体的开放的下部表面和上述连接气缸之间，将开放的上述腔本体的下部与外部隔离。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔本体，该腔本体的上部和下部开放，并通过形成于一侧的通道运送基板；内部反应管，该内部反应管具有下部开放的形状，并设置在上述腔本体的上部而提供对上述基板实施工序的工序空间；基板支架，配置在上述腔的开放的下部，可以将通过上述通道运送的上述基板转换到沿着上下方向装载的装载位置、及朝向上述工序空间上升而对被装载的上述基板实施工序的工序位置；遮断板，连接在上述基板支架的下部而与上述基板支架一起升降，在上述工序位置封闭上述内部反应管的开放的下部；连接气缸，竖立设置在上述遮断板的下部而与上述遮断板一起升降；遮断部件，被连接在上述腔本体的开放的下部表面和上述连接气缸之间，该遮断部件用于将装载空间与外部隔离，并且在上述基板支架的装载位置，所述装载空间与上述工序空间连通；及歧管，设在上述腔本体的上部，对上述内部反应管进行支撑，上述歧管上形成有：第1供给口，向上述工序空间供给工序气体；排气口，形成在上述工序气体供给口的相反侧而排放被供给到上述工序空间的上述工序气体；及第2供给口，形成在上述第1供给口的下部而向上述装载空间供给净化气体，其中，上述第2供给口在上述基板支架的上述工序位置配置成与上述遮断板相同的高度，上述腔本体包括排气端口(34)，通过该排气端口对供给到上述装载空间的净化气体进行排放。