[发明专利]光罩基底衬底收纳容器在审
| 申请号： | 201480049627.4 | 申请日： | 2014-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN105518529A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 铃木勤;大堀伸一;小板桥龙二;中川秀夫;高坂卓郎;木下隆裕;福田洋 | 申请（专利权）人： | 信越聚合物株式会社;信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明抑制对光阻图案产生的影响并且更确实地降低因在保管、搬送或容器操作的过程中所有可能产生的尘埃或粒子的附着引起的光罩基底的污染，提高光罩基底的质量及良率。本发明涉及一种光罩基底衬底收纳容器(1)，其收纳、搬送或保管光罩基底衬底(2)，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且该构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 衬底 收纳 容器 | ||
【主权项】：
一种光罩基底衬底收纳容器，其特征在于：其收纳、搬送或保管光罩基底衬底，且其构成零件中的至少1个包含以40℃保持60分钟下通过动态顶空法测定的释气中的己内酰胺量以正癸烷换算计每树脂单位重量成为0.01ppm以下的热塑性树脂，并且包含该热塑性树脂材料的构成零件的表面电阻值为1.0E+13欧姆以下。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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