[发明专利]电磁波屏蔽膜的制造方法在审
| 申请号： | 201480036725.4 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN105340375A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 川边茂寿;斋藤笃志 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;B05D1/26;B05C5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使增加层数也可以良好地实施同时复层涂布的电磁波屏蔽膜的制造方法。在具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构的电磁波屏蔽膜的制造方法中，具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆40的滑动式模涂机，使构成高折射率层的第1涂布液L1的涂布层与构成低折射率层的第2涂布液L2的涂布层交替地层叠，对膜基材进行同时复层涂布。挡杆40具有：前端部56，其与邻接的另一挡杆40之间形成间隙58；基端部50，与另一挡杆4抵接；以及袋部53，其位于前端部56与基端部50之间且具有作为涂布液积存部的凹部54。袋部53的厚度D4为15mm以下，涂布工序中，供给第2涂布液L2的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P2与供给第1涂布液L1的挡杆40的袋部53的凹部54的内压P1的压力差ΔP被设定为0.1MPa以下。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 屏蔽 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种电磁波屏蔽膜的制造方法，该电磁波屏蔽膜具有高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的结构，该制造方法具有涂布工序：使用具有多个层叠的挡杆的滑动式模涂机使构成所述高折射率层的第1涂布液的涂布层与构成所述低折射率层的第2涂布液的涂布层交替地层叠而对膜基材进行同时复层涂布，所述挡杆具有：前端部，其在与邻接的另一挡杆之间形成间隙；基端部，其与所述另一挡杆抵接；以及袋部，其位于所述前端部与所述基端部之间且具有作为涂布液积存部的凹部，所述袋部的厚度为15mm以下，所述涂布工序中，供给所述第2涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压与供给所述第1涂布液的挡杆的袋部的凹部的内压的压力差被设定为0.1MPa以下。
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