[发明专利]电抛光和多孔化在审
申请号: | 201480033178.4 | 申请日: | 2014-09-18 |
公开(公告)号: | CN105308761A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 林承笵 | 申请(专利权)人: | 太阳能公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C25F3/30;C25F7/00;H01L31/068 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾丽波;井杰 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了在硅基板上形成多孔层的方法。形成所述多孔层可包括:将硅基板置于第一溶液中,并传导第一电流通过所述硅基板。所述方法还可包括传导第二电流通过所述硅基板,从而在所述硅基板上产生多孔层。 | ||
搜索关键词: | 电抛光 多孔 | ||
【主权项】:
一种方法,包括:将硅基板置于第一溶液中;传导第一电流通过所述第一溶液中的所述硅基板;以及传导第二电流通过所述硅基板,从而在所述硅基板上产生多孔层。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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