[发明专利]在基底中形成凹槽的技术及具有凹槽的制品有效

专利信息
申请号: 201480031982.9 申请日: 2014-05-28
公开(公告)号: CN105263701B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: B·A·斯文特克;K·R·布雷舍;D·G·贝尔德;L·A·费恩;M·L·尼尔森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: B32B3/02 分类号: B32B3/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 牛海军
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种组件,所述组件可包括限定了至少一个凹槽的基底和邻近所述凹槽定位并附接至所述基底上的部件。在一些实例中,可通过如下方法形成所述凹槽:将研磨剂制品的结构化研磨剂层与所述基底的表面摩擦接触,相对于所述基底的所述表面纵向推进所述结构化研磨剂层,并且围绕基本上垂直于所述基底的所述表面的旋转轴旋转所述基底,使得所述结构化研磨剂层与所述基底的所述表面保持接触并磨削所述基底的所述表面,从而在所述表面上形成所述凹槽。在一些实例中,在将所述部件附接至所述基底后,可在所述基底上形成所述凹槽。此外,可在不使用添加的松散研磨剂颗粒或研磨剂浆料的情况下形成所述凹槽。
搜索关键词: 基底 形成 凹槽 技术 具有 制品
【主权项】:
1.一种用于在基底中形成凹槽的方法,所述方法包括:形成组件,所述组件包括基底和附接到所述基底的第一表面的部件,其中所述基底还包括与所述第一表面基本上相对的第二表面;将研磨剂制品的结构化研磨剂层与所述基底的第二表面摩擦接触,其中所述研磨剂制品包括沿着支撑构件的周向表面设置的结构化研磨剂构件,其中所述结构化研磨剂构件包括所述结构化研磨剂层,所述结构化研磨剂层包括固定至包括聚合物膜的背衬的成型的研磨剂复合物,其中所述背衬邻近所述支撑构件,并且其中所述成型的研磨剂复合物包括保留在粘结剂材料中的研磨剂颗粒;相对于所述基底的所述第二表面纵向推进所述结构化研磨剂层;以及围绕基本上垂直于所述基底的所述第二表面的旋转轴旋转所述基底,使得所述结构化研磨剂层与所述基底的所述第二表面保持接触并磨削所述基底的所述第二表面,从而在所述第二表面上形成凹槽。
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