[发明专利]逐层自组装包含光吸收或光稳定化合物的高分子电解质的方法和制品在审
| 申请号： | 201480028856.8 | 申请日： | 2014-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105229090A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | D·J·施密特;R·S·巴卡尼恩;T·J·赫布林克;J·R·米勒 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00;C08F22/00;C08F18/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平;侯宝光 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了保护基底免受光照引起的劣化的方法。所述方法包括提供基底以及将通过逐层自组装沉积的多个层设置在所述基底上。所述层的至少一部分包含分散在高分子电解质内的有机光吸收化合物、有机光稳定化合物，或它们的组合。还描述了包括基底和通过逐层自组装沉积的多个层的制品，其中所述层的至少一部分包含分散在高分子电解质内的有机光吸收化合物、有机光稳定化合物，或它们的组合。还描述了适用于所述方法和制品的无规共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 组装 包含 光吸收 稳定 化合物 高分子 电解质 方法 制品 | ||
【主权项】：
一种保护基底免受光照引起的劣化的方法，包括：提供包含有机聚合物材料的基底；在所述基底上设置通过逐层自组装沉积的多个层其中所述层的至少一部分包含分散在高分子电解质内的有机光吸收化合物、有机光稳定化合物，或它们的组合。
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