[发明专利]P2X7调节剂

摘要

本发明涉及式(I、Ia、IIa和IIb)的化合物：本发明还涉及药物组合物，其包含式(I、Ia、IIa和IIb)的化合物。制备和使用式(I、Ia、IIa和IIb)的化合物的方法也在本发明的范围内。

主权项

1.一种式（I）的化合物以及式（I）的化合物的药学上可接受的盐，其中R1为(a) 任选地被零至四个独立地选自卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、全卤代C1‑C4烷基和全卤代C1‑C4烷氧基的基团取代的苯基；或(b) 独立地选自下列的杂芳基：其中Rk独立地选自H、卤素、C1‑C3烷基、羟基、全卤代C1‑C4烷基和C1‑C4烷氧基；Rj独立地选自H或C1‑C3烷基，其中C1‑C3烷基任选地被一至三个卤素取代基、一个OH取代基或一个C1‑C4烷氧基取代基取代；并且n为0‑3的整数；X为N或CR2；R2为H、全卤代C1‑C4烷基或C1‑C3低级烷基；R3为H、全卤代C1‑C4烷基、C1‑C4烷基、C1‑C4烷基‑O‑C1‑C4烷基、CH2Ri、‑C(O)Re或苯基，其中所述苯基任选地被零至两个独立地选自卤素、C1‑C3烷基、C1‑C4烷氧基、全卤代C1‑C4烷基和全卤代C1‑C4烷氧基的基团取代；Ri为OH、NC3H6、N(C1‑C3烷基)2或卤素；Re为OH、OC1‑C3烷基、N(C1‑C3烷基)2或NC3H6；R4和R5独立地为H或C1‑C3烷基；R8为任选地被零至四个Rm取代基取代的苯基或吡啶基，其中Rm独立地选自卤素、C1‑C3烷基、羟基、C1‑C4烷氧基、全卤代C1‑C4烷基和全卤代C1‑C4烷氧基；或者R8独立地选自：。