[发明专利]表面被覆氮化硼烧结体工具在审

专利信息
申请号: 201480018940.1 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN105073312A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 濑户山诚;冈村克己;月原望 申请(专利权)人: 住友电工硬质合金株式会社
主分类号: B23B27/14 分类号: B23B27/14;B23B27/20;C23C14/06
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 常海涛;高钊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种表面被覆氮化硼烧结体工具,其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体表面上的覆层(10)。覆层(10)的B层(30)包括交替层叠的至少两种类型的薄膜层(31,32),其中该薄膜层(31,32)具有不同的组成。薄膜层中的一种类型的B1薄膜层(31)包括交替层叠的至少两种类型的具有不同组成的化合物层(31A,32B)。各化合物层(31A,32B)的厚度为至少0.5nm且小于30nm。薄膜层中不同于B1薄膜层(31)的B2薄膜层(32)的厚度为30nm以上且小于200nm。
搜索关键词: 表面 被覆 氮化 烧结 工具
【主权项】:
一种表面被覆氮化硼烧结体工具,其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体的表面上的覆层,所述立方氮化硼烧结体包含30体积%以上80体积%以下的立方氮化硼,并且还包含结合相,所述结合相包含铝化合物、不可避免的杂质、以及选自由在日本使用的元素周期表中的4族元素、5族元素和6族元素的氮化物、碳化物、硼化物和氧化物及其固溶体构成的组中的至少一种化合物,所述覆层包括A层和B层,所述A层由MLaza1构成,其中M表示Al、Si、以及在日本使用的元素周期表中的4族元素、5族元素和6族元素中的一种或多种;La表示B、C、N和O中的一种或多种;且za1为0.85以上1.0以下,所述B层是通过交替层叠一层或多层的各薄膜层而形成的,其中所述各薄膜层为具有不同组成的两种或多种薄膜层,每个所述薄膜层的厚度大于30nm且小于200nm,作为所述薄膜层之一的B1薄膜层是通过交替层叠一层或多层的各化合物层而形成的,其中所述各化合物层为具有不同组成的两种或多种化合物层,每个所述化合物层的厚度为0.5nm以上且小于30nm,作为所述化合物层之一的B1a化合物层由(Ti1‑xb1‑yb1Sixb1M1yb1)(C1‑zb1Nzb1)构成,其中M1表示Al、以及在日本使用的元素周期表中除了Ti之外的4族元素、5族元素和6族元素中的一种或多种;xb1为0.01以上0.25以下;yb1为0以上0.7以下;且zb1为0.4以上1以下,作为所述化合物层之一的不同于所述B1a化合物层的B1b化合物层由(Al1‑xb2M2xb2)(C1‑zb2Nzb2),构成,其中M2表示Si、以及在日本使用的元素周期表中的4族元素、5族元素和6族元素中的一种或多种;xb2为0.2以上0.77以下;且zb2为0.4以上1以下,作为所述薄膜层之一的不同于所述B1薄膜层的B2薄膜层由(Al1‑xb3M3xb3)(C1‑zb3Nzb3)构成,其中M3表示Si、以及在日本使用的元素周期表中的4族元素、5族元素和6族元素中的一种或多种;xb3为0.2以上0.77以下;且zb3为0.4以上1以下,所述A层的厚度为0.2μm以上10μm以下,所述B层的厚度为0.06μm以上5μm以下,并且所述覆层的整体厚度为0.26μm以上15μm以下。
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