[发明专利]用于处理具有传感器相关噪声的成像数据的技术有效
申请号: | 201480015940.6 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN105144675B | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 约尔格·贝韦尔斯多夫;黄方 | 申请(专利权)人: | 耶鲁大学 |
主分类号: | H04N1/00 | 分类号: | H04N1/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 朱胜;李春晖 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于对被传感器相关噪声所污染的成像数据进行处理的技术。描述了一种成像方法。在该成像方法中,获取由至少第一传感器元件和第二传感器元件获得的并且与被成像区域对应的成像数据。使参数化模型适合于成像数据。该参数化模型包括:由第一传感器元件在由第一传感器元件获得的成像数据的第一部分中生成的噪声的第一传感器相关模型;由第二传感器元件在由第二传感器元件获得的成像数据的第二部分中生成的噪声的第二传感器相关模型。第一传感器相关噪声模型与第二传感器相关噪声模型至少部分不同。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 具有 传感器 相关 噪声 成像 数据 技术 | ||
【主权项】:
1.一种处理器实现的成像方法,包括:获取由至少第一传感器元件和第二传感器元件获得的并且与被成像区域对应的成像数据;以及使用处理器来使参数化模型适合于所述成像数据,其中,所述参数化模型包括:由所述第一传感器元件在由所述第一传感器元件获得的所述成像数据的第一部分中生成的第一传感器相关噪声模型;以及由所述第二传感器元件在由所述第二传感器元件获得的所述成像数据的第二部分中生成的第二传感器相关噪声模型,其中,所述第一传感器相关噪声模型与所述第二传感器相关噪声模型至少部分不同;以及使所述参数化模型适合于所述成像数据包括:将所述第一传感器相关噪声模型与参数相关光子散粒噪声模型结合,以获取所述成像数据的第一部分中的传感器相关噪声和光子散粒噪声的估算值;以及将所述第二传感器相关噪声模型与所述参数相关光子散粒噪声模型结合,以获取所述成像数据的第二部分中的传感器相关噪声和光子散粒噪声的估算值。
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