[发明专利]化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201480015882.7 | 申请日： | 2014-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN105164308B | 公开（公告）日： | 2017-09-29 |
| 发明（设计）人： | P·娜尔;C·波瑞恩;J·维蒂耶洛 | 申请（专利权）人： | 阿尔塔科技半导体公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 王小东 |
| 地址： | 法国圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于化学气相沉积的反应器装置(1)，包括‑具有净化气体入口(106)的反应腔室(4)。气体排放通道(100)通过位于所述腔室的内壁(19)中的圆周开口(49a)连接至所述反应腔室(4)，所述反应腔室(4)被布置成使得净化气体流(200)从所述净化气体入口(106)流动到所述排放通道(100)。所述反应腔室的所述内壁(19)包括用于与所述净化气体交换热的部件，例如翅片。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种用于化学气相沉积的反应器装置(1)，该反应器装置包括：‑具有净化气体入口(106)的反应腔室(4)；‑气体排放通道(100)，该气体排放通道通过位于所述反应腔室的内壁(19)中的圆周开口(49a)连接至所述反应腔室(4)，所述反应腔室(4)被布置成使得净化气体流(200)从所述净化气体入口(106)循环到所述排放通道(100)；所述反应腔室的所述内壁(19)包括用于与所述净化气体交换热的热交换部件，其中所述热交换部件包括从所述反应腔室(4)中的所述内壁(19)突出的多个翅片(51g)，所述翅片(51g)被布置成朝向所述圆周开口(49a)引导所述净化气体流(200)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
