[发明专利]通过在含氧分压的环境中使用铝源在基材上生长氧化铝以产生透明的抗刮窗的方法在审
| 申请号： | 201480015214.4 | 申请日： | 2014-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN105247096A | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | J.B.莱文;J.P.奇拉尔多 | 申请（专利权）人： | 卢比肯科技公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周李军;杨思捷 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于尤其是使用氧化铝层涂布基材(例如玻璃基材)以产生抗刮和抗碎裂基体的系统和方法，所述基体在透明和抗碎裂基材的一个或多个侧上产生薄的抗刮氧化铝膜，用于例如表玻璃、手机、平板计算机、个人计算机等的消费和移动装置。所述系统和方法可包括溅射技术。所述系统和方法可产生具有约2mm或更小厚度的薄窗，且基体(即，氧化铝膜和透明基材的组合)可具有抗碎裂性，其杨氏模量值小于蓝宝石，即小于约350千兆帕斯卡(GPa)。薄窗具有优越的或抗碎裂性的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 氧分压 环境 使用 基材 生长 氧化铝 产生 透明 抗刮窗 方法 | ||
【主权项】：
用于在基材上产生氧化铝表面的系统，所述系统包括：产生氧分压的室；将透明或半透明基材保持或固定在所述室内的装置；和在所述室内产生铝原子和/或氧化铝分子来与氧反应以产生基体的装置，所述基体包含涂布抗碎裂的透明或半透明基材的氧化铝膜。
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