[发明专利]环形等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201480014623.2 | 申请日： | 2014-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN105144849B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | W·霍尔伯;R·J·巴斯奈特 | 申请（专利权）人： | 普拉斯玛比利提有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H05H1/46 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种包含真空室的等离子体处理装置，该真空室包含：管道、处理室、用于将气体引入真空室内的第一气体输入口，以及用于从真空室中排出气体的泵出口。磁芯包围着管道。射频电源的输出与磁芯电连接。射频电源给磁芯供电，由此在真空室内形成环形等离子体回路放电。用于在等离子体处理期间支撑工件的台板位于处理室内。 | ||
| 搜索关键词： | 环形 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种CVD等离子体处理方法，用于沉积金刚石、类金刚石碳和石墨烯中的至少一种，所述方法包括：a)形成包含管道和处理室的真空室；b)在第一气体输入口将第一气体引入所述真空室内；c)对位于所述管道周围的磁芯施加射频电磁场以在所述真空室内形成环形等离子体回路放电；d)以不同的泵浦速率抽吸真空室的不同部分，由此在等离子体回路的不同部分产生压力差；e)将工件定位于所述处理室内，处于从热等离子芯到所述工件的表面的距离为0.1cm到5cm的范围，以进行等离子体处理；以及f)在第二气体输入口将含氢的气体引入到所述工件附近使得所述环形等离子体回路放电产生原子氢。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于普拉斯玛比利提有限责任公司，未经普拉斯玛比利提有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480014623.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有冷却装置的电子装置
- 下一篇：一种豆浆机用控制芯片
