[发明专利]使用含有金离子和氟离子的溶液形成金属硅化物的方法

摘要

本发明涉及一种用于形成硅化镍或硅化钴的方法，包括以下步骤‑将含硅基板的表面暴露到含有0.1mM～10mM的金离子和0.6M～3.0M的氟离子的水溶液中并持续在5秒～5分钟之间的时间，‑通过无电镀手段在活化的基板上沉积基本上由镍或钴构成的层，‑在300℃～750℃之间的温度下施加快速热处理，从而形成硅化镍或硅化钴。所述水溶液包含选自含有至少一种阴离子或非离子极性基团并含有10～16个碳原子的烷基链的化合物的表面活性剂。这种方法基本上可以应用到NAND存储器和光伏电池的制造。

主权项

一种用于在含硅基板上形成硅化镍或硅化钴的方法，所述方法包括以下步骤：‑使所述含硅基板的表面与包含金离子和氟离子的水溶液接触，从而在所述表面上形成金属金颗粒，其中所述水溶液包含选自含有至少一种阴离子或一种非离子极性基团并含有10～16个碳原子的一个烷基链的化合物的表面活性剂，‑通过无电镀途径在覆盖有根据前述步骤获得的金属金颗粒的所述表面上沉积包含按重量计超过90％的镍或钴的层，其中所述层的厚度在10nm～45nm之间，和‑在300℃～750℃之间的温度下施加快速热退火，从而形成硅化镍或硅化钴。