[发明专利]用于变更蚀刻速率的离子注入有效
| 申请号： | 201480004617.9 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN105008891B | 公开（公告）日： | 2018-02-06 |
| 发明（设计）人： | D·富尔德;C·吕埃 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N23/225 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 周学斌,刘春元 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 注入以一定图案的材料可以硬化所述以一定图案的材料以用于后续蚀刻。当通过离子束溅射、化学增强带电粒子束蚀刻或化学蚀刻来蚀刻该区域时，由于硬化图案的减小的蚀刻速率，保留了较厚的结构。本发明对于制备用于在透射电子显微镜上进行观察的薄片是尤其有用的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 变更 蚀刻 速率 离子 注入 | ||
【主权项】：
一种用于使用聚焦离子束系统来制备薄的、增强的薄片状结构的方法，包括：从样品材料部分地形成薄片；形成至少一个凸起结构，其通过以下步骤来机械强化所述薄片：将第一聚焦离子束导向到所述薄片上，使得将所述第一聚焦离子束的离子以一定图案注入到所述薄片的表面中，其中所述第一聚焦离子束的离子是使被注入的薄片的材料硬化的离子种类；以及利用第二聚焦离子束研磨所述薄片，所述第二聚焦离子束以比所述薄片的未注入有离子的第二区域更低的速率研磨所述薄片的注入有离子的第一区域，使得所述薄片的注入有离子的一部分在第一区域处形成至少一个凸起结构。
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