[发明专利]导电性高分子材料、导电性高分子材料的制造方法和图像形成装置构件有效
| 申请号： | 201480004589.0 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN104968699B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 中岛正;田河宏高 | 申请（专利权）人： | 株式会社普利司通 |
| 主分类号： | C08G18/48 | 分类号： | C08G18/48;G03G15/00;G03G15/08;G03G15/16;H01B1/12;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种导电性高分子材料、所述导电性高分子材料的制造方法和图像形成装置构件，如此改善在连续导电期间的电阻稳定性以便实现延长的寿命。该导电性高分子材料含有作为电解质阳离子引入高分子材料的主链中的季铵碱和作为电解质阴离子的烷基硫酸根。 | ||
| 搜索关键词： | 导电性 高分子材料 制造 方法 图像 形成 装置 构件 | ||
【主权项】：
1.一种图像形成装置构件用导电性高分子材料，其含有：作为电解质阳离子引入到高分子材料的主链中的季铵碱；和作为电解质阴离子的烷基硫酸根，所述季铵碱和所述烷基硫酸根的配混量相对于100质量份所述高分子材料为0.01质量份至10质量份。
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