[发明专利]止回阀单元中的或者用于产生真空的设备中的噪声衰减在审

专利信息
申请号: 201480001422.9 申请日: 2014-10-08
公开(公告)号: CN105051434A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: K·汉普顿;D·E·弗莱特谢尔;B·M·格雷琴;R·布拉沃;M·吉尔默;A·尼德特 申请(专利权)人: 戴科知识产权控股有限责任公司
主分类号: F16K15/00 分类号: F16K15/00
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 郝文博
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开具有一个或多个声音衰减构件的止回阀单元。止回阀单元包括壳体,所述壳体限定入口端口、出口端口、以及与所述入口端口和出口端口流体连通的腔室,从而限定从所述入口端口通过所述腔室至所述出口端口的流动路径。所述腔室包括第一阀座和第二阀座并且具有设置于其中的密封构件,所述密封构件能从位于所述第一阀座上的位置运动至位于所述第二阀座上的位置。声音衰减构件设置于所述腔室的下游的流动路径中、设置于所述腔室内、或者两者兼有。在另一实施例中,止回阀单元包括与所述腔室流体连通的文丘里部分。所述文丘里部分与所述腔室的下游的流动路径具有流体连接部或者形成文丘里部分的排出段,从而限定所述出口端口。
搜索关键词: 止回阀 单元 中的 或者 用于 产生 真空 设备 噪声 衰减
【主权项】:
一种止回阀单元,包括:壳体,所述壳体限定入口端口、出口端口、以及与所述入口端口和出口端口流体连通的腔室,从而限定从所述入口端口通过所述腔室至所述出口端口的流动路径,其中所述腔室包括第一阀座和第二阀座;设置于所述腔室中的密封构件,所述密封构件能从位于所述第一阀座上的位置运动至位于所述第二阀座上的位置;以及声音衰减构件,所述声音衰减构件设置于所述腔室的下游的流动路径中、设置于所述腔室内、或者既设置于所述腔室的下游的流动路径中又设置于所述腔室内。
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