[实用新型]抛光模面形修改装置有效
| 申请号： | 201420707533.9 | 申请日： | 2014-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN204277692U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 马平;游云峰;谢磊 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610044 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种抛光模面形修改装置，属于光学元件加工技术领域。它包括支撑柱、支持架、导轨和驱动电机，导轨两端由支撑柱和支持架支撑并与其连接；还包括平移装置、施压装置和修改盘；平移装置由滑槽固定在导轨上，平移装置由驱动电机驱动；平移装置和支撑柱之间设有限位杆；施压装置经平移装置与导轨连接，施压装置下部经传压杆与修改盘连接，修改盘与传压杆之间设有水平度调整装置，其由凹槽和其中嵌入的活动轮构成。本实用新型解决了抛光模面形压力不均匀的问题，实现了对抛光模面形的高精度修改，减少了环抛加工中的不确定因素，可对加工元件面形进行有效的控制，提升加工元件的加工质量和精度，并提高加工的效率，实现了局部定点修改面形。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 模面形 修改 装置 | ||
【主权项】：
一种抛光模面形修改装置，包括支撑柱（10）、支持架（11）、导轨（6）和驱动电机（1），导轨（6）两端由支撑柱（10）和支持架（11）支撑并与其连接；其特征在于，还包括平移装置（5）、施压装置（4）和修改盘（3）；平移装置（5）由滑槽固定在导轨（6）上，平移装置（5）由驱动电机（1）驱动；平移装置（5）和支撑柱（10）之间设有限位杆（2）；施压装置（4）经平移装置（5）与导轨（6）连接，施压装置（4）下部经传压杆（7）与修改盘（3）连接，修改盘（3）与传压杆（7）之间设有水平度调整装置，其由凹槽（9）和其中嵌入的活动轮（8）构成。
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