[实用新型]小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽有效
| 申请号： | 201420694115.0 | 申请日： | 2014-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN204215148U | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵;林伟;吕振群 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 44269 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽，所述容置框架用于容置3英寸至5英寸的小铬版，主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应。本实用新型实施例通过采用框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应的技术手段，从而可对多片小铬版竖直放置且同时进行后制程，达到了提高生产效率，节约人力成本，提升制品品质的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 小铬版容置 框架 后制程用 显影 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种小铬版容置框架，用于容置3英寸至5英寸的小铬版，其特征在于，所述容置框架的主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应。
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