[实用新型]一种用于检测镀源污染的镀膜装置有效
| 申请号： | 201420658037.9 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN204174274U | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | 林耀辉;江新松;邱树添;彭家彦;王军辉 | 申请（专利权）人： | 安徽三安光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于检测镀源污染的镀膜装置，包括用于盛放镀源的坩埚，所述坩埚具有多个盛放镀源的坩埚容器，其特征在于：所述镀膜装置还包括多个感应器，用于检测镀膜过程中镀源间的交叉污染状况；所述感应器位于相邻所述坩埚容器之间的间隔处。当镀源出现交叉污染时，感应器将污染信号反馈给镀膜机台并发出报警，进而提醒工作人员针对性地对芯片的污染程度进行检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 检测 污染 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种用于检测镀源污染的镀膜装置，包括用于盛放镀源的坩埚，所述坩埚具有多个盛放镀源的坩埚容器，其特征在于：所述镀膜装置还包括多个感应器，用于检测镀膜过程中镀源间的交叉污染状况；所述感应器放置于相邻所述坩埚容器之间的间隔处。
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