[实用新型]一种用于真空离子镀膜的送气系统有效
| 申请号： | 201420575549.9 | 申请日： | 2014-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN204080094U | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 范玉山;陈君 | 申请（专利权）人： | 苏州涂冠镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于真空离子镀膜的送气系统，属于金属表面处理技术领域，它解决了现有技术中的送气系统气流混合不均匀，布气效果差的问题。本送气系统包括若干个进气管道和与进气管道连接的混合室，进气管道上设有进气控制阀，混合室的混合腔内具有阻流结构，混合室另一端连接有出气管道，出气管道上设有出气控制阀，出气管道的输出端与真空室内的布气管连接。本真空离子镀膜的送气系统采用MFC质量流量控制器可调节不同气体的流量，可实现不同工艺参数的调节；出气管道采用控制阀控制通断，可实现定向送气的目的；布气管的出气孔大小采用线性分布，其各个出气孔的出气量相对均匀，更有利于提升产品各个部位的工艺一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 离子 镀膜 送气 系统 | ||
【主权项】：
一种用于真空离子镀膜的送气系统，其特征在于，包括若干个进气管道和与进气管道连接的混合室，所述的进气管道上设有进气控制阀，所述混合室的混合腔内具有阻流结构，所述的混合室另一端连接有出气管道，所述的出气管道上设有出气控制阀，所述的出气管道的输出端与真空室内的布气管连接。
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