[实用新型]一种SF6气体中激光反射装置、及激光开关有效

专利信息
申请号: 201420573727.4 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN204086670U 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 何安 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 王记明
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公布了一种SF6气体中激光反射装置、及激光开关,包括一个密闭的腔室,在密闭的腔室内充有SF6气体,腔室具有一个入射窗口、以及垂直于入射窗口的射出窗口,在腔室内安装有一个镀膜反射镜,将所述的镀膜反射镜替更换为CaF2直角棱镜。本实用新型通过采用CaF2晶体制作的反射元件就可以避免受到氢氟酸的腐蚀和污染,彻底解决了镀膜反射镜容易被腐蚀和污染的问题,将通常认为的耗材变成一种非耗材,不仅克服了技术上的偏见,而且,大大降低了使用成本,取得了积极的经济效益和社会效益。
搜索关键词: 一种 sf sub 气体 激光 反射 装置 开关
【主权项】:
一种SF6气体中激光反射装置,包括一个密闭的腔室(1),在密闭的腔室(1)内充有SF6气体,腔室(1)具有一个入射窗口(2)、以及垂直于入射窗口(2)的射出窗口(3),在腔室(1)内安装有一个镀膜反射镜,其特征在于:将所述的镀膜反射镜替更换为CaF2直角棱镜(4)。
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