[实用新型]氮化硅薄膜窗口有效
| 申请号： | 201420467096.8 | 申请日： | 2014-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN204087838U | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 王晟 | 申请（专利权）人： | 上海纳腾仪器有限公司 |
| 主分类号： | G21K7/00 | 分类号： | G21K7/00;G01N23/04 |
| 代理公司： | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人： | 沈履君 |
| 地址： | 201616 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型氮化硅薄膜窗口，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。本实用新型氮化硅薄膜窗口实现了保证软X射线高透过率的同时，也保证了较好的应力。同时可以实现多样品的测量，对比效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 薄膜 窗口 | ||
【主权项】：
氮化硅薄膜窗口，其特征在于，包括：衬底，在所述衬底上镀有氮化硅膜；所述氮化硅膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸相同；观测沟槽，多个所述观测沟槽设置在所述衬底上，所述观测沟槽贯穿所述衬底；标记沟槽，所述标记沟槽设置在所述衬底上，所述标记沟槽贯穿所述衬底；其中所述观测沟槽及所述标记沟槽为一倒置的正四棱台空穴结构，底面开口位于所述衬底上部、顶面开口位于所述衬底下部。
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