[实用新型]多晶硅还原炉的密封结构有效

专利信息
申请号: 201420461499.1 申请日: 2014-08-15
公开(公告)号: CN204022480U 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 赵建;王中华;盛斌;朱敏;詹水华 申请(专利权)人: 江苏双良新能源装备有限公司
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 代理人: 唐纫兰
地址: 214444 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种多晶硅还原炉的密封结构,包括炉筒法兰(1)、底盘法兰(2)和密封垫片(3),密封垫片(3)放置在炉筒法兰(1)的底部的垫片槽内,并在炉筒法兰(1)上设置炉筒法兰冷却水道(11),在垫片上方相应位置处的炉筒法兰(1)底部设置炉筒法兰垫片冷却水道(12),在底盘法兰(2)顶部中间设置底盘冷却水道(21)以及在垫片下方相应位置处的底盘法兰(2)顶部边缘设置底盘法兰垫片冷却水道(22),同时增高底盘(4)伸入炉筒(5)到炉筒底部位置的凸台(41)高度。本实用新型能降低与垫片接触的金属温度,并能降低垫片附件物料气的流动及其温度,达到理想的降温效果,减少因温度导致垫片再次使用时回弹性能的大幅度降低,提高了密封垫片的使用寿命。
搜索关键词: 多晶 还原 密封 结构
【主权项】:
一种多晶硅还原炉的密封结构,包括炉筒法兰(1)、底盘法兰(2)和密封垫片(3),其特征在于所述密封垫片(3)放置在炉筒法兰(1)的底部的垫片槽内,并在炉筒法兰(1)上设置炉筒法兰冷却水道(11),在垫片上方相应位置处的炉筒法兰(1)底部设置炉筒法兰垫片冷却水道(12),在底盘法兰(2)顶部中间设置底盘冷却水道(21)以及在垫片下方相应位置处的底盘法兰(2)顶部边缘设置底盘法兰垫片冷却水道(22),同时增高底盘(4)伸入炉筒(5)到炉筒底部位置的凸台(41)高度。
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