[实用新型]晶圆双面研磨设备有效
| 申请号： | 201420276319.2 | 申请日： | 2014-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN203843664U | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周贵英 | 申请（专利权）人： | 周贵英 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08;B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315100 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶圆双面研磨设备，包括研磨盘，研磨盘底部中心处设有驱动装置一，驱动装置一底部设有滑块，滑块安装于滑轨上，研磨盘上表面设有研磨布，研磨盘上方设有研磨头和研磨剂供给装置，研磨头上部中心处设有驱动装置二，研磨头底部通过伸缩支杆连接有衬垫，研磨头底部周圈设有限位环，限位环、衬垫以及研磨盘围成的封闭空间内设有工件，研磨头上方依次叠设有冷却液回收盘和冷却液供给盘，冷却液供给盘通过输出泵连接一输出管，输出管另一端连接设于限位环内的冷却通道，冷却通道上还通过回流管连接至冷却液回收盘，冷却液回收盘与冷却液供给盘通过管道连通。本实用新型降低了限位环周围的温度，保证研磨的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 研磨 设备 | ||
【主权项】：
一种晶圆双面研磨设备，其特征在于：包括研磨盘(1)，所述研磨盘(1)底部中心处设有驱动装置一(2)，所述驱动装置一(2)底部设有滑块(18)，所述滑块(18)安装于滑轨(19)上，所述研磨盘(1)上表面设有研磨布(3)，所述研磨盘(1)上方设有研磨头(4)和研磨剂供给装置(5)，所述研磨头(4)上部中心处设有驱动装置二(20)，所述研磨头(4)底部通过伸缩支杆连接有衬垫(6)，所述研磨头(4)底部周圈设有限位环(7)，所述限位环(7)、衬垫(6)以及研磨盘(1)围成的封闭空间内设有工件(8)，所述研磨头(4)上方依次叠设有冷却液回收盘(9)和冷却液供给盘(10)，所述冷却液供给盘(10)通过输出泵(11)连接一输出管(12)，所述输出管(12)另一端连接设于限位环(7)内的冷却通道(13)，所述冷却通道(13)上还通过回流管(14)连接至冷却液回收盘(9)，所述冷却液回收盘(9)与冷却液供给盘(10)通过管道(15)连通。
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