[实用新型]远程等离子体系统与化学气相沉积设备之间的连接装置有效
申请号: | 201420152933.8 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN203794981U | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 刘涛;龚荟卓;金懿 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种远程等离子体系统(RPS)与化学气相沉积(CVD)设备之间的连接装置,通过将原有RPS与CVD设备腔体之间的连接管分段设置,并在二段连接管之间加装一个隔离阀,将RPS和腔体隔绝,使RPS和腔体之间不发生直接连通,在拆除RPS的时候,将隔离阀关闭,即可实现腔体不需要再破大气,省去了腔体因此升降温和腔体维护的时间,本实用新型解决了现有技术存在的在拆除RPS时,腔体复机时间过长的问题,从而增加了设备的利用率。 | ||
搜索关键词: | 远程 等离子体 系统 化学 沉积 设备 之间 连接 装置 | ||
【主权项】:
一种远程等离子体系统与化学气相沉积设备之间的连接装置,所述远程等离子体系统设于所述化学气相沉积设备上方,并通过连接管与所述化学气相沉积设备的腔体连通,所述远程等离子体系统将解离的离子气体通过所述连接管输送至所述化学气相沉积设备的腔体内清洗腔体,其特征在于,所述连接管包括第一连接管和第二连接管,所述第一连接管、第二连接管之间加装一隔离阀,将所述远程等离子体系统和所述化学气相沉积设备的腔体隔绝,所述远程等离子体系统、第一连接管、隔离阀、第二连接管、化学气相沉积设备腔体依次连接;其中,所述隔离阀打开时,所述远程等离子体系统将解离的离子气体通过所述第一连接管、隔离阀、第二连接管输送至所述化学气相沉积设备的腔体内清洗腔体,所述隔离阀关闭时,将所述化学气相沉积设备的腔体与包括所述远程等离子体系统在内的设备外部环境相隔绝。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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