[实用新型]具有用于在化学气相沉积系统中改善加热均匀性的器件的晶片承载器

摘要

一种具有用于在化学气相沉积系统中改善加热均匀性的器件的晶片承载器。所述晶片承载器包括凹入其本体的晶片保持凹穴。热绝缘间隔装置至少部分地位于至少一个晶片保持凹穴中，并且设置为保持周壁表面和晶片之间的间隔。间隔装置由具有比晶片承载器的热传导率低的材料制成，使得间隔装置限制热从晶片承载器本体的部分传递到晶片。晶片承载器进一步包括间隔保持特征，其与间隔装置对应并且包括用于防止在绕中心轴线旋转时间隔装置的离心运动的表面。

主权项

一种具有用于在化学气相沉积系统中改善加热均匀性的器件的晶片承载器，其特征在于，晶片承载器总成包含： 绕中心轴线对称设置的晶片承载器本体，包括垂直于中心轴线设置的总体上平坦的上表面； 至少一个从上表面凹入晶片承载器的晶片保持凹穴，至少一个晶片保持凹穴的每一个包括底面和围绕底面并且形成晶片保持凹穴的周壁的周壁表面，晶片保持凹穴用于在绕中心轴线旋转时将晶片保持在周壁内；以及 晶片保持凹穴进一步设置为容纳具有至少一个平直边缘的晶片，其中在其上保持晶片的至少一个平直边缘的底面的一部分具有升高的部分，其比位于晶片的圆形边缘部分之下的底面的部分凹进少。