[实用新型]一种用于区熔炉的气体控制系统有效
| 申请号： | 201420053298.8 | 申请日： | 2014-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN203741451U | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 曹建伟;陈明杰;汤承伟;傅林坚;王丹涛;石刚;欧阳鹏根;邱敏秀;蒋庆良 | 申请（专利权）人： | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/28 | 分类号： | C30B13/28 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 周世骏 |
| 地址： | 312300 浙江省绍*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及非金属晶体制造设备，旨在提供一种用于区熔炉的气体控制系统；该实用新型包括气体控制箱、质量流量计、压力控制器、气体过滤器和区熔炉体；所述区熔炉体包括上炉室、主炉室和下炉室，主炉室内设有熔区；气体控制箱内设有两路炉体进气管路，且该两路炉体进气管路连接到主炉室上，该两路炉体进气管路上均设有气体过滤器和质量流量计。该实用新型的有益效果是：它具有高精度的压力稳定控制和气体流量控制，优选的气体流通路径可带走炉内杂质，提高熔区洁净度和拉制单晶纯度；保护气体可保证熔区周围气体压力，提高熔区稳定性，掺杂气体对准熔区可直接有效地将掺杂元素渗入熔硅中，以达到改变硅单晶相关品质性能的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 熔炉 气体 控制系统 | ||
【主权项】：
一种用于区熔炉的气体控制系统，包括气体控制箱，其特征在于，还包括质量流量计、压力控制器、气体过滤器和区熔炉体；所述区熔炉体包括上炉室、主炉室和下炉室，其中主炉室内设有熔区；所述气体控制箱内设有两路炉体进气管路，分别为保护气体进气管路和掺杂气体进气管路；且该两路炉体进气管路连接到主炉室上；所述两路炉体进气管路上均设有气体过滤器和质量流量计；所述区熔炉体的上炉室顶部和下炉室底部各设有一路回气管路，且该两路回气管路上均设有气体过滤器、质量流量计或压力控制器。
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