[发明专利]纳米尺度下大面积散射场的快速测量方法及装置在审
| 申请号: | 201410855944.7 | 申请日: | 2015-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN104501738A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
| 发明(设计)人: | 刘世元;杜卫超;张传维;谭寅寅 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种纳米尺度下快速大面积海量散射场测量的装置,包括:起偏端,用于将光束进行调制得到一定偏振态的光束;检偏端,用于将偏振态光束进行解调以获得样品信息;还包括物镜和第一透镜,待测样品位于物镜的前焦面上,偏振态光束经过该第一透镜聚焦在物镜的后焦面,待测样品散射光被物镜收集并成像于其后焦面,进而成像于图像采集装置上;以及扫描振镜,用于使得所述物镜出射到样品上的光束角度改变,获得待测样品不同入射角下的散射场分布图像,实现对待测样品纳米尺度下的快速精确的形貌测量。本发明还公开了相应的测量方法。本发明可以实现对待测样品多入射角下散射场快速采集,获得待测样品散射场在物镜后焦面上分布。 | ||
| 搜索关键词: | 纳米 尺度 大面积 散射 快速 测量方法 装置 | ||
【主权项】:
一种纳米尺度下快速大面积海量散射场测量的装置,其包括:起偏端,其设置在激光光源出射光路上,用于将入射至其上的光束进行调制,以得到一定偏振态的光束;检偏端,其用于将入射到其上的包含待测样品信息的偏振态光束进行解调,已获得样品信息;其特征在于,还包括:设置在样品台前的光路上的物镜和第一透镜,其中样品台上的待测样品位于所述物镜的前焦面上,所述起偏端获得的偏振态光束经过该第一透镜聚焦在所述物镜的后焦面,进而通过所述物镜入射至待测样品上,该待测样品的散射光被物镜收集并成像于其后焦面,然后通过第一透镜以及所述检偏端后成像于图像采集装置上;以及扫描振镜,其设置于所述起偏端之前或之后的光路上,用于改变入射到所述透镜上的偏振态光束的入射角度,进而改变聚焦到所述物镜后焦面的位置,使得所述物镜出射到样品上的光束角度改变,从而可以获得待测样品不同入射角下的散射场分布图像,通过获取不同散射场下的穆勒矩阵,即可实现对待测样品纳米尺度下的快速精确的形貌测量。
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