[发明专利]一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法有效

专利信息
申请号: 201410854254.X 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN105807571B 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 唐平玉;王海江;张启天 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B17/04
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法,该系统包括发射部分和接受部分,发射部分包括第一转向反射光学元件,接受部分包括第二转向反射光学元件和探测器,一部分测量光束经过第一转向反射光学元件后以零入射角直接射入第二转向反射光学元件,最终到达探测器,另一部分测量光束经过被测对象反射后射入第二转向反射光学元件,最终到达探测器,两部分测量光束在探测器上分别成像以实现调焦调平系统的自参考功能。本发明通设置第一转向反射光学元件和第二转向反射光学元件,对两部分测量光束的入射角进行调节,使其经过不同的光路成像到探测器上,实现了系统的自参考功能,提高了系统的测量精度。
搜索关键词: 一种 光刻 调焦 系统 及其 平方
【主权项】:
1.一种光刻机用调焦调平系统,包括发射部分和接受部分,其特征在于,所述发射部分包括第一转向反射光学元件,所述接受部分包括第二转向反射光学元件和探测器,一部分测量光束经过所述第一转向反射光学元件后以零入射角直接射入所述第二转向反射光学元件,最终到达所述探测器,另一部分测量光束经过被测对象反射后射入第二转向反射光学元件,最终到达所述探测器,两部分测量光束在探测器上分别成像以实现调焦调平系统的自参考功能;所述第一、第二转向反射光学元件均包括:1个第一转向棱镜和设于所述第一转向棱镜两侧的2个第二转向棱镜;所述一部分测量光束经过所述发射部分的第二转向棱镜后,以零入射角直接投射至所述接受部分的第二转向棱镜后,最终到达所述探测器;所述另一部分测量光束经过所述发射部分的所述第一转向棱镜,投射至所述被测对象,经过所述被测对象反射后,投射至所述接受部分的第一转向棱镜,最终到达所述探测器。
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