[发明专利]用于沟槽刻蚀的光刻版及沟槽的刻蚀方法

摘要

本发明涉及一种用于沟槽刻蚀的光刻版，包括第一和第二沟槽图形区域，第一沟槽图形区域包括多条宽度相等的第一条形，各第一条形的间距相等，第二沟槽图形区域包括多条宽度相等的第二条形，各第二条形的间距相等；第二条形的条宽等于所述第一条形的条宽，各第二条形的间距小于各第一条形的间距。本发明还涉及一种沟槽的刻蚀方法。本发明通过设置合适的条宽和间距，使得在同时进行刻蚀的情况下，第一沟槽图形区域形成的沟槽比第二沟槽图形区域形成的沟槽深度要深，能够通过一次光刻和刻蚀形成两种以上不同深度的沟槽。

主权项

1.一种用于沟槽刻蚀的光刻版，包括第一沟槽图形区域和第二沟槽图形区域，其特征在于，所述第一沟槽图形区域包括多条宽度相等的第一条形，各第一条形的间距相等，所述第二沟槽图形区域包括多条宽度相等的第二条形，各第二条形的间距相等，所述第一沟槽图形区域的单位面积中第一条形所占面积不等于所述第二沟槽图形区域的单位面积中第二条形所占面积；所述第一沟槽图形区域和第二沟槽图形区域用于光刻并刻蚀形成沟槽，所述第一沟槽图形区域用于形成比第二沟槽图形区域形成的沟槽深度深的沟槽；其中，所述第二条形的条宽等于所述第一条形的条宽，各第二条形的间距小于各第一条形的间距，或所述第二条形的条宽小于所述第一条形的条宽，所述第一条形的条宽与第一条形间间距之和等于第二条形的条宽与第二条形间间距之和。