[发明专利]一种表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料及其制备和应用

摘要

本发明涉及一种表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料及其制备和应用，所述表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料为将离子液体通过固载在多孔氧化硅上的链转移剂接枝到多孔氧化硅上，然后和钯杂化得到。以硅酸钠为硅源，通过硅酸钠在酸性条件下的水解反应制备多孔氧化硅。将带有双键的可聚合的离子液体1‑烯丙基‑3‑甲基咪唑溴盐通过固载在多孔氧化硅上的链转移剂MPTS接枝到多孔氧化硅上。利用咪唑阳离子对氯化钯特有的吸附能力，经硼氢化钠还原，可以制备出含钯的杂化材料。应用于降解甲基橙。本发明实施简便，可以快速彻底地降解印染废水中的甲基橙，保护环境和人们身体健康。

主权项

一种表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料，其特征在于：所述表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料为将离子液体通过固载在多孔氧化硅上的链转移剂接枝到多孔氧化硅上，然后和钯杂化得到；其中离子液体为1‑烯丙基‑3‑甲基咪唑溴盐；链转移剂为3‑硫基丙基三甲氧基硅烷MPTS；多孔氧化硅的比表面积为200‑500m2/g，孔径14‑26nm，为介孔氧化硅；其中多孔氧化硅的制备具体为：将硅源溶于水中，加入硫酸，室温搅拌反应3‑6h，陈化，然后调节pH为9‑11，70‑120℃条件下水热处理8‑12h，干燥，得到多孔氧化硅；其中硅源、硫酸的比例为3‑10g：10‑50mL；其中表面接枝离子液体的氧化硅/钯杂化材料应用于降解甲基橙，具体为：将杂化材料加入到甲基橙水溶液中，再加入H2O2，静置，甲基橙水溶液褪色；其中杂化材料、甲基橙水溶液、H2O2的比例为0.01‑1g：1‑10mL：1‑10mL。