[发明专利]支承结构及使用该支承结构的离子发生装置在审
| 申请号： | 201410822189.2 | 申请日： | 2014-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN104752127A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 佐藤正辉 | 申请（专利权）人： | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/317 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够减少反射极的绝缘性降低的支承结构及离子发生装置。离子发生装置(10)具备电弧室(12)；反射极(62)，具有设置于电弧室内的反射板(64)、及插通于连通电弧室(12)内外的贯穿孔(60)的反射极延长部(66)；以及支承结构(70)，设置于电弧室(12)的外侧，并以确保反射极延长部(66)与贯穿孔(60)的内壁之间的间隙(60a)的方式支承反射极。支承结构(70)具有罩部件(80)，在电弧室(12)的外部划分与间隙(60a)连通的小室(88)；以及绝缘部件(72)，将电弧室(12)与反射极(62)之间电绝缘。 | ||
| 搜索关键词： | 支承 结构 使用 离子 发生 装置 | ||
【主权项】：
一种离子发生装置，其特征在于，具备：电弧室；反射极，具有设置于所述电弧室内的反射板、及插通于连通所述电弧室内外的贯穿孔的反射极延长部；以及支承结构，设置于所述电弧室的外侧，并以确保所述反射极延长部与所述贯穿孔的内壁之间的间隙的方式支承所述反射极，所述支承结构具有：罩部件，在所述电弧室的外部划分与所述间隙连通的小室；以及绝缘部件，将所述电弧室与所述反射极之间电绝缘。
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