[发明专利]中折射率蒸发镀膜材料及其制备工艺和应用有效
| 申请号： | 201410815306.2 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104557039A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 陈钦忠;张瑜 | 申请（专利权）人： | 福州阿石创光电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/50 | 分类号： | C04B35/50;C04B35/622;C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司： | 福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙) 35212 | 代理人： | 林晓琴 |
| 地址： | 350200 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种中折射率蒸发镀膜材料及其制备工艺和应用，中折射率蒸发镀膜材料包括质量比为30：20：1：13的氧化镧、三氧化二铝和二氧化硅；中折射率蒸发镀膜材料的制备工艺包括：混料反应、压制成型和高温烧结等步骤；利用中折射率蒸发镀膜材料制备蒸发镀膜的工艺，是选用南光ZZS600型真空蒸发镀膜机，设定一系列的镀膜参数对中折射率蒸发镀膜材料进行蒸发镀膜以获得单层膜。本发明的优点在于：可制备出特定的折射率为1.75的单层膜，中折射率蒸发镀膜材料具有良好的稳定性，其在多层膜的制备中使用稳定，是一种理想的中折射率蒸发镀膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 蒸发 镀膜 材料 及其 制备 工艺 应用 | ||
【主权项】：
一种中折射率蒸发镀膜材料，其特征在于：包括质量比为30：20：1的氧化镧、三氧化二铝和二氧化硅。
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