[发明专利]蒸镀装置有效
| 申请号： | 201410802486.0 | 申请日： | 2014-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104532192B | 公开（公告）日： | 2018-01-30 |
| 发明（设计）人： | 李金川;吴聪原 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区公*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蒸镀设备包括真空室，提供真空环境；蒸发源，位于真空室中，提供用于蒸镀的Li3N，并对Li3N进行加热分解，产生Li；对位系统，与蒸发源相对设置，对需镀膜的基片进行定位，使Li沉积在基片上；冷凝泵，与真空室连通，用于对真空室进行抽真空处理；分子泵，与真空室连通，用于维持真空室的低真空度。通过上述方式，本发明能够提高腔内真空度，减少对器件寿命的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：真空室，提供真空环境；蒸发源，位于所述真空室中，提供用于蒸镀的Li3N，并对所述Li3N进行加热分解，产生Li；对位系统，与所述蒸发源相对设置，对需镀膜的基片进行定位，使所述Li沉积在所述基片上；冷凝泵，与所述真空室连通，对所述真空室进行抽真空处理；分子泵，与所述真空室连通，维持所述真空室的低真空度；其中，所述分子泵与冷凝泵相对设置，相互独立，通常情况下所述蒸镀装置仅开启时，冷凝泵进行抽真空，蒸镀时，所述分子泵快速抽取分子量小的气体，使真空度维持在E‑5以下，当在蒸镀WOLED时，所述蒸发源对提供的Li3N进行加热升温，导致真空室内真空度上升，开启所述分子泵，使真空室内真空度维持在E‑5帕以下。
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