[发明专利]一种五元杂环甲酸钡及其制备方法和阴离子引发体系以及共轭二烯烃聚合物的制备方法

摘要

本发明提供了一种五元杂环甲酸钡及其制备方法和阴离子引发体系以及共轭二烯烃聚合物的制备方法。该阴离子引发体系含有主引发剂和助引发剂，其中，所述主引发剂为具有式(Ⅰ)所示结构的五元杂环甲酸钡，其中，R1和R2各自独立为H、C1‑C16的烷基、C1‑C16的烷氧基或C3‑C6的乙二醇烷氧基，M1和M2各自独立地为NH、S或O；所述助引发剂含有烷基铝和有机锂。采用本发明的阴离子引发体系不仅能够在将1,2‑结构含量控制在10‑20重量％基础上得到高反式结构含量的聚合物，而且溶剂还能够很容易地回收。此外，采用本发明提供的阴离子引发剂体系能够在非常短的时间内完成聚合反应，并且具有式(Ⅰ)所示结构的五元杂环甲酸钡的制备过程简单，极具工业应用前景。 1

主权项

1.一种具有式(Ⅰ)所示结构的五元杂环甲酸钡：

其中，R₁和R₂各自独立地为C₁₀‑C₁₄的烷基，M₁和M₂各自独立地为NH或O；或者，

R₁和R₂各自独立地为C₃‑C₆的乙二醇烷氧基，M₁和M₂为S。

2.一种五元杂环甲酸钡的制备方法，该方法包括将具有式(Ⅱ)所示结构的五元杂环甲酸与氢氧化钡进行中和反应；

其中，R₁为C₁₀‑C₁₄的烷基，M₁为NH或O；或者，

R₁为C₃‑C₆的乙二醇烷氧基，M₁为S。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其中，所述中和反应的条件包括：反应温度为100‑150℃，所述氢氧化钡与具有式(Ⅱ)所示结构的五元杂环甲酸的摩尔比为1：2‑3。

4.一种阴离子引发体系，该阴离子引发体系含有主引发剂和助引发剂，其特征在于，所述主引发剂为权利要求1所述的五元杂环甲酸钡，所述助引发剂含有烷基铝和有机锂。

5.根据权利要求4所述的阴离子引发体系，其中，所述五元杂环甲酸钡与有机锂的摩尔比为0.03‑1：1。

6.根据权利要求4或5所述的阴离子引发体系，其中，所述烷基铝与有机锂的摩尔比为0.1‑1.5：1。

7.一种共轭二烯烃聚合物的制备方法，该方法包括：在阴离子引发体系的存在下，将含有共轭二烯烃的聚合单体在溶剂中进行阴离子聚合反应，其特征在于，所述阴离子引发体系为权利要求4‑6中任意一项所述的阴离子引发体系。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其中，所述阴离子聚合反应条件包括：聚合温度为50‑120℃，聚合时间为0.5‑4小时。

9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其中，所述聚合单体还含有单乙烯基芳烃。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述单乙烯基芳烃与共轭二烯烃的重量比为1：4‑19。

11.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述共轭二烯烃选自丁二烯、异戊二烯、1,3‑戊二烯、1,3‑己二烯和2,3‑二甲基丁二烯中的一种或多种；所述单乙烯基芳烃选自苯乙烯、乙烯基甲苯、α‑甲基苯乙烯和4‑叔丁基苯乙烯中的一种或多种。

12.根据权利要求11所述的制备方法，其中，所述单乙烯基芳烃为4‑甲基苯乙烯。