[发明专利]使用电化学蚀刻制造半导体器件的方法以及半导体器件有效
| 申请号： | 201410727194.5 | 申请日： | 2014-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN104701178B | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | H-J·舒尔策;P·伊尔西格勒;H·韦伯 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技奥地利有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L29/78 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 在第一导电类型的台面之间的半导体衬底中形成沟槽。沟槽从加工表面延伸直至底平面。第二、互补的导电类型的半导体层被形成在沟槽的侧壁上。至少在台面中，垂直于加工表面的垂直的杂质浓度分布在加工表面和底平面之间是非恒定的。在此之后，凹进的半导体层的厚度反映在台面中的垂直杂质浓度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 电化学 蚀刻 制造 半导体器件 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种制造半导体器件的方法，所述方法包括：在半导体衬底中的第一导电类型的台面之间形成沟槽，所述沟槽从加工表面延伸直至底平面；在所述沟槽的侧壁上形成互补的第二导电类型的半导体层，其中至少在所述台面中，垂直于所述加工表面的垂直杂质浓度部分在所述加工表面和所述底平面之间是非恒定的；以及然后通过电化学蚀刻移除在所述沟槽中的所述半导体层的一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
