[发明专利]防止EEPROM被紫外线擦写的版图实现方法有效

专利信息
申请号: 201410667926.6 申请日: 2014-11-20
公开(公告)号: CN105633088B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 肖特 申请(专利权)人: 上海华虹集成电路有限责任公司
主分类号: H01L27/11526 分类号: H01L27/11526;H01L23/552;H01L23/58
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种防止EEPROM被紫外线擦写的版图实现方法,采用一个EEPROM存储器,可以正常进行EEPROM读写操作,采用一个Mn金属屏蔽层,将EEPROM存储器阵列区域覆盖,采用多个第一接地连接孔将Mn金属屏蔽层连接到EEPROM存储器芯片中的地信号上,采用一个Mk金属屏蔽层,将EEPROM存储器阵列区域覆盖,采用多个第二接地连接孔将Mk金属屏蔽层连接到EEPROM存储器芯片中的地信号上;其中,Mn为EEPROM存储器芯片中第n层金属,Mk为EEPROM存储器芯片中第k层金属,且k≠n。本发明可以防止通过紫外线照射方法擦除EEPROM数据。
搜索关键词: 防止 eeprom 紫外线 擦写 版图 实现 方法 结构
【主权项】:
1.一种防止EEPROM被紫外线擦写的版图实现方法,其特征在于:采用一个EEPROM存储器,该EEPROM存储器能够正常进行读写操作;采用一个Mn金属屏蔽层,将EEPROM存储器阵列区域覆盖;采用多个第一接地连接孔将Mn金属屏蔽层连接到EEPROM存储器芯片中的地信号上;采用一个Mk金属屏蔽层,将EEPROM存储器阵列区域覆盖;采用多个第二接地连接孔将Mk金属屏蔽层连接到EEPROM存储器芯片中的地信号上;其中,Mn为EEPROM存储器芯片中第n层金属,Mk为EEPROM存储器芯片中第k层金属;n和k均为正整数,且k≠n。
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