[发明专利]溅射源水处理装置和水处理方法在审
| 申请号： | 201410629553.3 | 申请日： | 2014-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN104451577A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 薛辉;任俊春;金海涛 | 申请（专利权）人： | 芜湖真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C02F1/00;C02F9/04;C02F103/02 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 孙向民;董彬 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射源水处理装置和水处理方法，其中，所述装置包括依次设置的进水管(1)、溅射源组件(2)和出水管(3)，其中，所述溅射源组件(2)中还包括有至少一个表面附着有陶瓷薄膜的磁体(4)。本发明通过将溅射源组件中的磁体表面附着有陶瓷薄膜，从而使得在实际使用过程中，当水通过溅射源组件时，使得溅射源组件中最易于被腐蚀的磁体得到保护，进而使得该溅射源组件的被腐蚀程度大大降低，从而使得溅射装置得到有效的保护，大大增加其使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 水处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射源水处理装置，其特征在于，所述装置包括依次设置的进水管(1)、溅射源组件(2)和出水管(3)，其中，所述溅射源组件(2)中还包括有至少一个表面附着有陶瓷薄膜的磁体(4)。
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