[发明专利]低反射型中性密度滤光片有效
| 申请号： | 201410618737.X | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN104297833A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 阴晓俊;高鹏;张勇喜;金秀;马敬;赵珑现 | 申请（专利权）人： | 沈阳仪表科学研究院有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/11 |
| 代理公司： | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人： | 郭元艺 |
| 地址： | 110043 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属光能衰减光学元件领域，尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片，包括基底及镀制其上的膜系层；所述膜系层结构为G|AMB或BM|G|MB；其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层；G为基底；A及B为匹配实现金属宽光谱减反射的膜堆；所述膜堆A和膜堆B由介质层与金属层M交替镀制而成；所述金属层M采用Ni-Cr或Ni-Cr-Fe材料；所述介质层采用TiO2、SiO2、Al2O3、HfO2、Ta2O5或Nb2O5。本发明可实现较宽光谱范围内的低反射和透射光谱中性二者性能上的兼顾。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 中性 密度 滤光 | ||
【主权项】：
低反射型中性密度滤光片，其特征在于，包括基底及镀制其上的膜系层；所述膜系层结构为G|A M B或B M| G|M B；其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层；G为基底；A及B为匹配实现金属宽光谱减反射的膜堆；所述膜堆A 和膜堆B由介质层与金属层M交替镀制而成。
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